Thüringer Hightech-Unternehmen auf US-Fachmesse: Vistec-Gruppe präsentiert sich auf "SEMICON West 2009"

Jena/San Francisco 13.07.2009 – Die Vistec Electron Beam Lithography Group nimmt an der bedeutendsten Messe für die Halbleiterindustrie in Nordamerika teil. Vom 14.-16. Juli 2009 wird die Vistec-Gruppe auf dem Gemeinschaftsstand des mitteldeutschen Halbleiter- und Elektroniknetzwerkes "Silicon-Saxony" sein Produkt- und Leistungsspektrum präsentieren. Im Moscone-Center von San Francisco haben sich auf einer Ausstellungsfläche von 60.000m² mehr als 1.400 internationale Aussteller angekündigt. "Als international agierendes Unternehmen ist es für die Vistec-Gruppe wichtig, die aktuelle Entwicklung auf dem sehr bedeutenden nordamerikanischen Markt genau zu verfolgen. Hierfür bietet uns die SEMICON West eine ausgezeichnete Möglichkeit", erläutert Ines Stolberg, Marketing Managerin bei der Vistec Electron Beam Lithography Group. "Außerdem möchten wir bestehende Kundenbeziehungen pflegen und Neukunden für unsere leistungsstarken Elektronenstrahl-Belichtungsanlagen in den Anwendungsgebieten Elektronenstrahl-Direktschreiben für schnelle Prototypen- und Design-Entwicklung sowie für das Maskenschreiben gewinnen."

Auf dem Branchentreff stellt das Unternehmen dem Fachpublikum die beiden Elektronenstrahl-Geräteserien Vistec SB3055 und Vistec SB250 vor. Beide Serien werden in Jena (Thüringen) entwickelt und gefertigt. Basierend auf der Variable Shaped Beam Technologie (VSB, Prinzip des Variablen Formstrahls) kommen beide Gerätelinien in der industriellen Halbleiterproduktion sowie an wissenschaftlichen Forschungseinrichtungen zum Einsatz.