SENTECH hat am 27. Februar 2014 ein Seminar zur Plasma Prozesstechnologie organisiert Das Seminar fand in den Räumen von SENTECH Instruments in Berlin Adlershof statt. Das Seminar war bereits das 8. Plasma Seminar und wurde von mehr als 50 Teilnehmern aus Industrie, Forschung und Universitäten besucht.
Von eingeladenen Referenten und von SENTECH Mitarbeitern wurden neuste Entwicklungen beim Plasma Ätzen, bei der ICPECVD Beschichtung und bei der (plasma enhanced) PEALD präsentiert. Das Seminar bot vielfältige Gelegenheiten zum Gedankenaustausch und zum Networking.
Ein besonderes Highlight des Seminars stellte der Vortrag von Herrn Bülow, TU Braunschweig, dar, welcher zum Thema ALD kombiniert mit ICPECVD referierte und insbesondere die OLED Verkapselung in den Fokus stellte. Herr Voigt vom Leipnitz Institut für Photonische Technologien, Jena, stellte einen Überblick an verschiedenen Si-Ätztaufgaben in einem Übersichtsvortrag dar, welcher die besondere Effizienz der ICP Ätzer von SENTECH zeigte. Ein besonderer Höhepunkt war der Vortrag von Herr Lukosius vom IHP Frankfurt/Oder über „Challenges in graphene synthesis and semiconductor/graphene structures“.
Alle Besucher hatten die Möglichkeit die SENTECH Applikationslabore sowie die Fertigungseinrichtungen zu besichtigen. Die Teilnehmer äußerten sich außerordentlich positiv und beschrieben das Seminar als besonders gelungen, informationsreich und gut organisiert. Hervorgehoben wurden auch die besonderen Möglichkeiten zum Knüpfen neuer Kontakte und das Kennenlernen neuer Anwendungen und Forschungsaspekte in der Plasma-Prozesstechnologie.
Motiviert durch den Erfolg des Seminars über Plasma Prozess Technologie plant SENTECH auch in der Zukunft solche Seminare anzubieten.
Die Präsentationen und Produktinformationen werden kostenlos zur Verfügung gestellt. Bitte kontaktieren Sie uns auf unserer Webseite.
Firma: SENTECH Instruments GmbH
Kontakt-Informationen:
Ansprechpartner: Pia Romanowski
Stadt: Berlin
Telefon: : +49 30 63 92 55 20
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